预裂爆破、光面爆破

　　1.临近永久边坡和堑沟、基坑、基槽爆破，应采用预裂爆破或光面爆破技术，并在主炮孔和预裂孔（光面孔）之间布设缓冲孔；运用该技术时，验孔、装药等应在现场爆破工程技术人员指导监督下由熟练爆破员操作。

　　2.预裂孔、光面孔应按设计图纸钻凿在一个布孔面上，钻孔偏斜误差不得超过1. 5%.

　　3.布置在同一控制面上的预裂孔，宜用导爆索网路同时起爆，如同时起爆药量超过安全允许药量时，也可分段起爆。

　　4.预裂爆破、光面爆破应采用不耦合装药，缓冲爆破应采用不耦合装药或间隔装药。若采用药串结构药包，在加工和装药过程中应防止药卷滑落；若设计要求药包装于钻孔轴线，应使用专门的定型产品或采取定位措施。

　　5.预裂爆破、光面爆破孔应按设计进行填塞。

　　6.预裂爆破孔与相邻主爆破孔或缓冲爆破孔起爆时差应不小于75ms。